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Assuntos Regulatórios Farmacêuticos: Acesso Aberto

Volume 3, Emitir 4 (2014)

Artigo de Pesquisa

Papel da hidratação metaestável e dos esporos para esterilizar esporos por exposição plasmática a azoto gasoso e análise de DPA por HPLC e UV

Hideharu Shintani

Muitos artigos foram publicados até agora sobre a esterilização por plasma a gás . São conduzidos principalmente por investigadores físicos, pelo que os aspetos microbiológicos e químicos são significativamente insuficientes. Ao juntar biólogos e químicos, a investigação sobre a esterilização por plasma gasoso avançou extraordinariamente. O mecanismo não estava claro até agora e desde o tempo de vida e algumas outras razões pelas quais os metaestáveis ??podem ser os fatores mais apropriados para a esterilização. A morte dos esporos é explicada pela hidratação do ácido dipicolínico no núcleo. Ao atacar os esporos metaestáveis, a superfície do esporo foi aberta e a água interior e a água circundante penetraram no núcleo para hidratar o DPA. O DPA à superfície foi recolhido com água e enriquecido com uma coluna SPE (extração em fase sólida). O dreno SPE foi analisado com uma coluna C-18 e eluído com acetonitrila/água (1/4, v/v) e detectado com 235 nm. A partícula da superfície do esporo pode ser confirmada como DPA. O processo de hidratação pode causar esporos, pelo que os números de esporos permanecem inalterados antes e depois da esterilização.

Artigo de Pesquisa

Comparação da resistência à radiação entre polissulfonas preparadas a partir de vários dióis aromáticos e 4,4’-diclorodifenil sulfona

Hideharu Shintani

Uma polissulfona aromática é constituída por um composto aromático 4,4'-diol e 4,4'-diclorodifenilsulfona. Como compostos aromáticos 4,4’-diol existem o bisfenol A, o p-dihidroxibenzeno, o 4,4’-difenol metano e o p,p’-difenol (bisfenol) e foram comparados para estudar qual o composto que indicaria o mais resistente à exposição aos raios gama . O dióxido de enxofre (SO2) da 4,4’-diclorodifenilsulfona foi utilizado como indicador de avaliação. A utilização do bisfenol na preparação da polissulfona indicou a maior resistência à exposição à radiação gama e menor produção de SO2 de entre os compostos diol aromáticos testados. Esta polissulfona indicada isenta de bisfenol A é produzível. A produção de SO2 a partir da polissulfona à base de bisfenol foi de cerca de 43% da polissulfona à base de bisfenol A. A taxa de diminuição da resistência à tracção correlacionou-se bem com a ordem da resistência à radiação. A tenacidade à fractura da polissulfona à base de bisfenol A diminuiu com a dose de irradiação, mas a polissulfona à base de bisfenol manteve a sua ductilidade original .

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