Assuntos Regulatórios Farmacêuticos: Acesso Aberto

Comparação da resistência à radiação entre polissulfonas preparadas a partir de vários dióis aromáticos e 4,4’-diclorodifenil sulfona

Abstract

Hideharu Shintani

Uma polissulfona aromática é constituída por um composto aromático 4,4'-diol e 4,4'-diclorodifenilsulfona. Como compostos aromáticos 4,4’-diol existem o bisfenol A, o p-dihidroxibenzeno, o 4,4’-difenol metano e o p,p’-difenol (bisfenol) e foram comparados para estudar qual o composto que indicaria o mais resistente à exposição aos raios gama . O dióxido de enxofre (SO2) da 4,4’-diclorodifenilsulfona foi utilizado como indicador de avaliação. A utilização do bisfenol na preparação da polissulfona indicou a maior resistência à exposição à radiação gama e menor produção de SO2 de entre os compostos diol aromáticos testados. Esta polissulfona indicada isenta de bisfenol A é produzível. A produção de SO2 a partir da polissulfona à base de bisfenol foi de cerca de 43% da polissulfona à base de bisfenol A. A taxa de diminuição da resistência à tracção correlacionou-se bem com a ordem da resistência à radiação. A tenacidade à fractura da polissulfona à base de bisfenol A diminuiu com a dose de irradiação, mas a polissulfona à base de bisfenol manteve a sua ductilidade original .